氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　真空速凝爐主要用于各種稀土永磁材料的熔煉,合金的冶煉。性能特點如下： 　　1、真空速凝爐采用lGBT恒功率中頻感應加熱電源對金屬進行熔煉,各項指標接近或超過日本同類產品。 　　2、熔煉量大,產量高(單爐產量600kg)。 　　3、片狀產品厚度均勻,結晶效果好。 　　4、真空速凝爐設備安全性好、穩定性高、自動化程度高(該設備采用PLC控制，觸摸屏操作顯示，熔煉成型精度高且操作簡單可靠。 　　5、產品生產效率高、耗能小。(單爐熔煉時間短(約4個小時)、耗電量低(約600KW/時) 　　6、該設備采用PLC控制，觸摸屏操作顯示，熔煉成型精度高且操作簡單可靠。 　　另外，真空速凝爐解決了現有的裝置優點在于，冷卻輥裝置的水冷軸為雙層水冷結構，既是傳動機構的傳動軸，又實現了冷卻輥的出入循環。同時該設備在合金冶煉合金鑄造等方面具有為廣泛的適用范圍。